分离器的夹套纵环缝RT检测工艺

刘建华(桂林市南方检测有限责任公司， 广西 桂林 541004)

分离器的夹套纵环缝RT检测工艺

刘建华(桂林市南方检测有限责任公司， 广西 桂林 541004)

本文对搪玻璃水分离器的夹套纵环缝的射线检测的技术工艺要点进行阐述，检测后底片的像质计灵敏度、清晰度和黑度能够满足JB/T4730-2005标准要求。为类似的压力容器射线检测提供了借鉴和参考。

射线检测；搪玻璃水分离器；夹套纵环缝

射线检测是指用X射线或r射线穿透试件，以胶片作为记录信息的器材的无损检测方法，该方法也是应用最广泛的一种最基本的射线检测方法。

1 根据设计要求对搪玻璃水分离器的夹套纵环缝进行20%RT检测

已知该产品编号为11C060,A5规格为1960×8mm、A6规格为1724×8mm 、B12规格为Φ1100(内)×8mm，内筒的规格为Φ1000(内)×14mm，材料为Q245R，坡口为V型，焊接方法为GTAW+SMAW,按JB/T4730.2-2005标准AB级检测技术Ⅲ级合格。检测焊缝编号A5、A6、B12示意图如下：

根据委托和工件实际情况对A5、A6、B12的透照工艺参数做以下阐述：

(1)透照方式的确定：根据此搪玻璃容器的夹套制造工艺，夹套的纵、环缝是在釜体搪瓷结束后再在釜体上完成装配及焊接的。A5、A6采用源在内双壁透照，B12可采用源在内中心周向双壁透照。

(2)透照厚度：A5、A6采用源在内双壁透照时，射线所透照厚度为内筒厚度+夹套厚度，即W=14+8=22mm；B12采用中心周向双壁透照时射线所透照厚度为内筒厚度+夹套厚度，即W=14+8=22mm。

(3)射线源的选择：根据该产品的结构特点及本公司的设备情况，A5、A6选用XXG-2505定向射线探伤机(焦点尺寸2.0×2.0mm)；B12选用XXGZ-2505周向锥靶射线探伤机(焦点尺寸2.0×2.0mm)。

(4)胶片型号与增感屏的选择：由于该设备的材质为Q245R，此材料不属于具有冷裂纹倾向的材料，所以根据标准要求可选用AGFA-C7胶片(T3类)和前、后屏均为0.03mm的铅箔增感屏。

(5)象质计型号和象质计灵敏度的确定：因为W=22mm，根据JB/T4730.2-2005的表7可查得应识别丝号为12号丝，所以可选用Fe10/16型象质计；根据设备本身特点，象质计无法放置在射线源侧，只能放置在胶片侧，同时需在底片上加F标记。

(6)透照焦距：JB/T 4730.2-2005中规定AB级射线检测技术f≥10d・b2/3， A5、A6的焦距可取F=700mm；B12的焦距F=1100/2+8+2=560mm，都满足AB级射线检测技术源到工件表面最小距离要求。

(7)透照次数和一次透照长度：一次透照长度应以透照厚度比K进行控制。纵向焊接接头AB级允许的透照厚度比K值小于等于1.03。根据K值A5、A6纵缝一次透照长度为340mm,各透照2次，每次布片1张(布片时应包括焊缝交叉部位)，每张片透照长度为280mm(胶片长度为360mm)。B12采用中心透照时，透照厚度比K值为1.0，透照次数为1次，布片3张(布片时应包括焊缝交叉部位)，每张片透照长度为280mm。

(8)底片有效评定长度：A5、A6的透照由于搭接标记无法放在源侧，只能放在胶片测，其底片有效评定长度Leff=L3+ΔL= L3+L2×L3/L1=280+(8+2)×280/(700-10)=284mm；B12由于采用中心透照，其底片有效评定长度即Leff=L3=280mm。

(9)检测比例：A5=(280×2)÷1960=28%;A6=(280×2) ÷1724=32%;B12=(280×3) ÷(1116×3.14)=22%。符合委托要求。

(10)胶片规格：根据现场焊缝的实际宽度，选用360×80mm。

(11)曝光参数的确定： 根据所选用设备的曝光曲线图和曝光量的平方反比定律，A5，A6的透照管电压为220Kv、管电流5mA、曝光时间3min；B12透照管电压为225Kv、管电流5mA、曝光时间3.3min.

(12)底片黑度：按JB/T 4730.2-2005第4.11.2条的规定，黑度应控制在2.0≤D≤4.0范围内.

注意事项：具体操作时要注意对搪玻璃层的保护，采取对射线机的工装用胶布包装，操作人员进入釜体内必须穿布鞋。

2 结语

经实施上述RT检测工艺，底片的像质计灵敏度、清晰度和底片黑度完全满足JB/T 4730-2005标准要求。说明此工艺射线检测搪玻璃水分离器的夹套纵环缝符合标准要求，保证了产品出厂质量，达到了检测目标。为类似的压力容器夹套纵环缝检测也可以值得参考。

[1]强天鹏.《射线检测》M.中国劳动社会保障出版社，北京，2007.

[2]JB/T4730.1～4730.6-2005《承压设备无损检测》 北京 2005.