铜铟镓硒靶材金属化层制备方法

专利名称：铜铟镓硒靶材金属化层制备方法

专利申请号：2015102328142

公布号：CN106180721A

申请日：2015.05.08 公开日：2016.12.07

申请人：北京有色金属研究总院

本发明涉及一种铜铟镓硒靶材金属化层制备方法，在制备铜铟镓硒靶材的同时制备金属化层，属于有色金属加工领域.先将石墨垫板置于热压炉模具的下压头上，再将金属片放在石墨垫板上，放入铜铟镓硒粉料，再放入上压头，将模具放于热压炉中进行热压烧结，在升温的同时加压，进行保温保压，然后冷却至室温；然后，将靶材从热压炉中取出，先加工靶面，然后加工金属化层，根据需要的金属化层的厚度确定加工量.本发明方法得到的铜铟镓硒靶材金属化层易于钎焊；导电、导热性能好；成本低，与靶材制备过程同步，大大降低了生產成本.