高硬度、耐磨易洁抛釉砖工艺技术的研究及工业化生产

罗强 江彬轩 钟保民 徐瑜 李苏波

摘 要：目前抛釉砖产品表面普遍存在硬度不足，耐磨强度不够，容易出现刮痕，易磨损。从而影响产品的美观和档次，因此开发研究一种能够满足耐磨、通透、高硬度的陶瓷砖及其工艺方法旨在解决现有陶瓷砖，保证现有陶瓷砖花色、紋理、效果、质感的前提下，使其制造过程便捷、安全和耐用。

关键词：耐磨 ;透明釉  ;耐磨熔块;  高硬度 ; 瓷砖釉面砖

1 前 言

陶瓷抛釉砖具有图案丰富多彩，光鲜亮丽的镜面效果，通透感强等优点，深受消费者喜爱，抛釉产品代替传统抛光转后，销量一直处于行业的前内，随着人们生活水平的不断提升，客户对产品功能性方面的诉求越来越大，目前具有经久耐用，个性需求的陶瓷釉面砖产品需求越来越大，而普通抛釉产品存在表面耐磨强度不够，硬度不足，容易产生刮痕、易磨损，从而影响产品的美观和档次[1]。同时，陶瓷抛釉砖存在清理困难。时间久了容易发黑、变色，不耐磨防污差等实用缺陷[2]。因此，需要对现有技术做进一步的改进和提升，研究开发一种满足耐磨、高硬、易洁的抛釉砖产品能保证花色、纹理、质感的前提下使产品性能得到提升及耐用。

2 生产工艺及参数

2.1工艺流程

坯体制粉→压制成型→干燥窑烘干→施面釉→喷墨印刷→淋抛釉→烧成→抛光线抛光 磨边→超洁亮防污剂→质量检测→包装成品

2.2坯体粉料配方及化学组成

坯体配方及化学组成见表1、表2。

2.3面釉配方及化学组成

面釉配方及化学组成见表3、表4。

2.4 抛釉配方及化学组成

抛釉配方及化学组成见表5～表8

2.5烧成温度曲线

烧成温度曲线见表9。烧成周期为48min。

3 抛光工艺

抛光工序采用三段抛磨和表面增量镀膜处理，第一段为粗抛抛光，使用弹性模块作为抛光磨具的抛光机磨料，细度为180目4组240目6组，300目4组，400目6组，共20组，对釉面进行一定程度的磨削、平整釉面，第二段为中抛，使用弹性模块作为抛光磨具的抛光机，磨料细度320目4组，400目6组，600目3组，800目3组共16组，第三段为精抛，使用弹性模块作为抛光磨具的抛光机，磨料细度为800目1组，1000目，1200目，1500目，2000目，3000目各3组共16组，第四段使用纳米防污剂对釉面进行镀膜，提高釉面的光泽度，以对磨抛后的被破坏的釉面进行填补处理。

4 结论

（1）本文所述抛釉砖制备通过严谨的配方设计，配方调试及科学的烧成制度下制备出高硬、通透、耐磨、易洁的抛釉砖产品

（2）通过耐磨熔块引入到透明釉料中，增加了釉料的透感和硬度，提升了耐磨性（经检测，耐磨等级达到4级6000转，莫氏硬度5～6级，防污5级）

（3）通过釉料中生料和熔块的合理搭配及正交实验得出最佳的配方组成。

（4）工艺生产过程无需增加设备，易于生产。

参考文献

[1] 喻劲军，张国涛.耐磨防滑易洁瓷质釉面砖的研发及生产[J].佛山陶瓷，2018，28（05）：16-19.

[2] 刘康时. 陶瓷工艺原理[M]. 华南理工大学出版社， 1990.