赵金航,李 博
(中航飞机起落架有限责任公司,陕西 汉中 723200)
铬是一种微带蓝色的银白色金属,金属铬在空气中极易钝化,表面形成一层极薄的钝化膜,从而显示出贵金属的性质。镀铬层具有很高的硬度,根据镀液成分和工艺条件不同,其硬度可在400~1200 HV 内变化。另外铬镀层有较好的耐热性,在500 ℃时才开始氧化变色。镀铬层的摩擦系数也较小[1],特别是干摩擦系数在所有金属中最低,所以铬镀层具有较好的耐磨性。同时,镀铬层具有良好的化学稳定性,与酸、碱、盐及大多数有机物均不发生反应。由于镀铬层具有优良的机械性能和防护性能,已在飞机起落架上广泛应用[2]。为满足某型号飞机起落架镀铬层质量要求,开展了镀硬铬新工艺研究,制备的镀层满足质量要求,具有一定的借鉴推广价值[3]。
硬度、结合力试件材料为300M 钢,尺寸为100 mm ×25 mm × 1 mm,镀层厚度为80~100 μm;氢脆试件材料为AISI 4340,选用ASTM F 519 1a1型试棒,镀层厚度为50±5 μm。
采用DUALSCOPE FMP40 型涂层测厚仪对各试件的镀层厚度进行测量;采用GW1-7 型7 mm 弯折实验器对试件进行结合力检测;用HMV-G-FA-D显微维氏硬度计对镀层硬度进行检测;采用QD-100氢脆实验专用实验机进行试棒氢脆性检测。
基体表面状态检查→蒸汽除油→吹氧化铝→水洗→装挂和保护→冷水洗(30 s,水膜连续性检查)→预热→阳极腐蚀→电镀硬铬→水洗→碱清洗→流动冷水洗→拆卸夹具→压缩空气吹干→除氢→检验。
各工序工艺配方与操作参数如下。
(1)蒸汽除油:介质三氯乙烯、温度86 ℃~92 ℃、时间3~5 min。
(2)吹氧化铝:150 目白刚玉,风压0.2 MPa、距离250 mm。
(3)电镀硬铬:镀液成分 CrO3270~310 g/L、Cr2O31~15 g/L 、H2SO4/CrO30.4% ~ 0.8% 、Fe<15 g/L、F-3~4 g/L。
电镀过程包括阳极腐蚀、冲击电镀、正常电镀三步,各步的工艺参数如表1所示。
表1 电镀过程工艺参数表Tab.1 Process parameter of electroplating process
(4)碱清洗:碱洗液成分Oakite 90型 45~90 g/L,碱洗温度82~93 ℃,时间3~5 min。
(5)除氢:温度190±5 ℃,时间> 23 h,需在电镀后3 h内开始除氢处理。
(1)厚度:硬度、结合力试片铬层厚度80~100 μm,氢脆试棒铬层厚度45~55 μm。
(2)结合力:待测试件反复弯曲180°直到发生断裂,断裂处镀层应无裂纹或脱落。
(3)硬度:在结合力试件上进行硬度测试,镀层硬度值800~1200 HV。
(4)氢脆性:按照ASTM-F-519 要求进行试棒加载,在75 %荷载拉伸力下至少200 h 不发生断裂。
将镀槽清洗干净,使用配制溶液的水作为最后一遍的清洗水。计算铬酐、硫酸和氟硅酸的用量,向镀槽注入约三分之二体积的水,打开抽风,再将计量的铬酐加入镀槽,搅拌至铬酐完全溶解,然后加水至规定的体积,搅拌均匀。取样分析,按分析结果边搅拌边加入计量的硫酸,搅拌均匀。待溶液冷却后向槽内加入计量的氟硅酸。重新取样分析,根据分析结果,通电处理以获得要求的三价铬浓度,并作好配制记录。
(1)按要求对溶液进行分析,并按照分析结果调整各组分到控制范围内。
(2)通电处理:将溶液加热至工作温度,通电至溶液含Cr3+(按Cr2O3计)3~8 g/L,通电工艺参数如下:温度40~60 ℃、阴极电流密度1~2 A/dm2、阴极面积/阳极面积≥10。
(3)每次工作前,将溶液调整到工作液面并搅拌均匀。
(4)电镀溶液中硫酸根含量过高时,可用碳酸钡或氢氧化钡除去多余的硫酸,每多1 g 硫酸,需添加碳酸钡2.5 g 或氢氧化钡2 g。处理时,从镀铬槽中取出计量的溶液于沉淀槽中,并在搅拌条件下缓慢加入计量的碳酸钡或氢氧化钡溶液,经过4~5 h 反应后,停止搅拌并使镀铬溶液静置沉降,然后过滤除去硫酸钡沉淀,再将上清液倒回镀铬槽,并搅拌均匀。
(5)电镀溶液中氯离子超标时,按下述参数通电处理,以达到控制要求:温度60~70 ℃、阴极电流密度80~100 A/dm2。
(6)当电镀溶液中的硫酸、Cr3+超标时,允许采用稀释方法调整:从镀铬槽中取出计量的溶液存放于储备槽中,加水稀释镀铬槽液并依据分析结果加入计量的铬酐,搅拌至完全溶解,重新分析、调整,合格后即可使用[4]。
采用涂层测厚仪对硬度、结合力试件和氢脆试棒的镀层厚度进行测量,结果见表2。测试结果表明各试件的镀层厚度均符合要求,但存在试件边缘及棱边部位镀层较其他部位偏厚的现象。[5]
表2 不同试件的镀层厚度Tab.2 Coating thickness of different test pieces
电镀硬铬试件照片如图1 所示,可以看出镀层表面光滑、无毛刺、结合力良好,而且无气泡、麻点、结瘤、空隙及尖角部位过厚和烧焦的现象,外观检测合格。在溶液中添加氟硅酸,它兼有活化镀层表面的作用,且可在电流中断或二次镀铬时仍得到光亮的镀层。
图1 电镀硬铬试件的照片Fig.1 Photograph of the electroplated hard chromium specimen
采用弯曲法进行结合力检验,将试件用弯折器夹紧,反复弯曲180°,直至基体金属折断,目视或在五倍放大镜条件下检查断口,结果如图2 所示。可以看出,镀层与基体无脱落或剥离的现象,镀层结合力检测合格。
图2 试片结合力检测结果Fig.2 Test result of test piece binding force
采用显微维氏硬度计进行铬镀层硬度检测,测点 1 检测结果为硬度 841 HV0.2,测点 2 为 859 HV0.2。基本可以推断,试样铬镀层硬度满足800~1200 HV要求,铬层硬度检测合格。
随着铬酐和硫酸含量的增加,槽液浓度升高,电镀铬后铬层更加致密,且在电镀槽液中用氟离子作为催化剂(氟硅酸)后,铬层硬度较大。
采用QD-100型号拉伸试验机按ASTM F519要求对试棒氢脆性进行检测,氢脆试棒在75%荷载拉伸力下200 h未发生断裂,氢脆测试合格。槽液中游离的F-可与电镀过程中产生的H+结合,生成弱酸性的HF,进而减少氢离子与电子结合成原子氢的机会,使渗透到金属中的氢原子减少,从而改善了镀层的氢脆性[6]。
(1)新配方的镀铬溶液稳定,分散能力和覆盖能力与原溶液相当,维护方便。
(2)新镀铬工艺制备的镀层外观、硬度、铬层致密性优于原镀铬溶液,氢脆性能与原镀铬工艺相当,产品性能不亚于原镀铬工艺。
(3)新镀铬工艺与原镀铬工艺均适用于抗拉强度σb≥1300 MPa的钢铁零件的电镀铬。