掩模
- 结合光学掩模调制的鼠眼像差精确测量
合理设置一种光学掩模结构，直接遮拦视网膜非目标层的反射光线，只允许目标层的反射光线进入波前测量，以提升鼠眼波前像差的测量精度。结合仿真分析结果可以得到针对小鼠视网膜的光学掩模孔径尺寸参数。对在体小鼠视网膜像差的测量实验发现，该方法可以实现波前像差测量误差的均方根（RMS）值下降74.9%，与理论仿真结果相近，说明本文所提方法有效提升了鼠眼波前像差的测量精度。2 原理与方法2.1 系统结构与掩模遮拦方案本实验采用透射式光学元件的扫描型波前探测系统，采用SHW
中国光学 2023年5期2023-10-07
- 融合掩模和注意机制的CNN图像分类算法
,提出了一种融合掩模和注意机制的CNN图像分类算法:使用基于掩模的预训练方法突出前景目标物体和去噪神经网络提取的去噪深度特征,降低了图像背景噪声和深度特征噪声的干扰,从而促使网络模型总框架更加稳定。并使用三种不同注意类型的激活函数进行充分实验,进一步提升了算法的性能。实验结果表明:将其算法应用于Corel-1000图像库时,分类精确度有了较大提升。2 网络模型为了更好地读取图像内容信息和提高图像分类精确度,构建了如图1所示的深度CNN网络模型总体框架。该框
计算机仿真 2023年4期2023-05-31
- 高阶次Caputo 型分数阶微分算子及其图像增强应用
法中，分数阶微分掩模算子的设计显得尤为重要[22,26-28].然而，由于分数阶微积分图像处理的研究相对较晚，再加上分数阶微积分目前还缺少一个统一的定义形式，而不同定义形式的分数阶微分掩模算子研究进展不平衡且表现出一定的差异性，比如目前相对于G-L 型和R-L 型定义形式，基于Caputo型定义形式的微分掩模算子相对较少，而G-L 型和RL 型形式的分数阶微分尽管对图像纹理细节具有较好的增强效果，但对图像对比度的提升较少[29].这样对适应不同定义形式分数
计算机研究与发展 2023年2期2023-03-02
- 改进灰狼算法提高数字光刻图像质量的研究
]原理是通过改变掩模的结构，比如在原始掩模中添加衬线、散射条等方式提高光刻分辨率，该技术缺点是优化自由度较低，精度不高。数字光刻技术[3]利用各类算法优化光源和掩模的结构（SMO）来提高光刻成像质量。SHEN[4]提出了一种距离水平集正则化的SMO重拟方法，该方法以更简单、更有效的数值实现保证，提高了计算效率。DMD具有反射效率高、分辨率高、对比度高、稳定性好，刷新速度快等优点[5]。分析DMD的结构可知，数字掩模是通过操控DMD每个微镜的开关来生成的。因
长春理工大学学报（自然科学版） 2022年6期2022-12-28
- 细粒度图像分类的通道自适应判别性学习方法
和零件注释发展到掩模Mask-CNN[10]和使用卷积层响应的无监督方法MA-CNN[11]、SCDA[12]。此外，Mask-CNN[10]、WS-DAN[13]、TASN[14]通过增加判别区域的数量，以减少由于视角和姿态变化等问题导致的小目标对象的误判。同时，一些致力于获得高级编码特征的方法BCNN[15]、CBP[16]、LRBP[17]、HBP[18]也取得了不错的效果。还有，基于补充特征信息的WS-CPM[19]、CIN[20]也被用来从有限数
计算机与现代化 2022年10期2022-10-18
- 基于分群和几何约束的器官外部组织快速剥离方法
实现器官组织三维掩模的快速构建，并提取相关器官组织。此外，本研究还探讨了空间约束下分层次组织剥离的方法和技术。结果表明使用本研究设计的分割工具能在三维可视环境下进行疾病的辅助诊断。1 器官分割和剥离方法1.1 几何约束的器官组织剥离方法本研究主要采用切割和剥离的方法实现器官组织内部分布呈现。体数据器官组织的分割流程如图1 所示，首先通过选择三维几何原型和绘制平行投影面的二维图形来产生组合的几何掩模；然后在这些更小的数据集中，通过种子填充和其他分类方法，将组
中国医学物理学杂志 2022年5期2022-05-31
- 结合自适应软掩模和混合特征的语音增强
噪语音特征和时频掩模间的非线性关系，且对理想二值掩模(Ideal Binary Mask，IBM)、理想浮值掩模(Ideal Ratio Mask，IRM)、目标二值掩蔽等一系列基于时频掩蔽的学习目标进行了对比。分析实验结果可知，当选用IRM作为学习目标进行语音增强时，增强语音的质量和可懂度最优。但IRM没有考虑与语音可懂度密切相关的相位信息，且在不同信噪比条件下，都根据语音能量在语音与噪声能量和中的比重来确定的，无法根据信噪比的不同来自动调节，容易造成目
西安电子科技大学学报 2022年2期2022-05-28
- 无镜头相机结合神经网络，能否产生更清晰的图像？
用于编码信息的薄掩模（mask简称掩模，是光刻工艺不可缺少的部件。掩模上承载有设计图形，光线透过它，把设计图形透射在光刻胶上），在应用场景中，需要数字计算来产生详细的图像。通过了解光如何与图像传感器前面的薄掩模相互作用，算法可以解码光信息并重建聚焦场景。然而，解码过程极其复杂。除了需要大量時间之外，生成良好的图像质量还需要完美的机身物理设计。研究人员还开发了一种依赖于深度学习的重建方法，使用卷积神经网络 （CNN） 的现有深度学习方法。CNN 根据相邻的“
电脑报 2022年19期2022-05-25
- 基于上下文门卷积的盲图像修复
法均是基于输入的掩模对图像的退化区域进行修复。基于此，提出了由掩模预测网络和图像修复网络组成的2阶段盲图像修复网络。整个修复过程无需输入掩模，掩模预测网络可以根据输入图像自动检测图像退化区域并生成掩模，图像修复网络根据预测掩模对输入图像的缺失部分进行修复。为了更好地利用全局上下文信息，基于上下文门卷积设计了一个上下文门残差块(CGRB)模块来提取特征信息。另外，还提出了空间注意力残差块(SARB)对远距离图像像素的关系进行建模，过滤了一些无关的细节信息。在
图学学报 2022年1期2022-03-21
- 一种改进反锐化掩模的自适应图像增强算法
进行增强。反锐化掩模（Unsharp masking，UM）是常见的图像增强方法之一，它可以有效增强图像的边缘和细节，使图像的轮廓更清晰，它主要分为线性反锐化掩模（Linear unsharp masking，LUM）和非线性反锐化掩模（Nonlinear unsharp masking，NUM）两大类。1 线性反锐化掩模算法LUM图像增强算法流程如图1所示，主要有四个步骤。首先，对原始图像进行低通滤波（例如均值滤波），得到一个钝化模糊的图像；其次，用原始
电子世界 2021年19期2021-11-03
- 复杂城市环境多模RTK/SINS 紧组合定位性能分析
而GNSS 虚拟掩模技术使用不同模板对卫星进行遮挡，对实际环境的卫星观测进行仿真，是对定位性能进行评估的有效手段[13-15]。因此，本文首先以开阔环境GNSS RTK/SINS 紧组合双向平滑结果作为参考值，利用虚拟掩模仿真方法模拟城市各类典型遮挡环境及其组合，并通过加入随机粗差等方式，仿真得到城市复杂环境下GNSS 观测值的方法，系统分析多星座组合GNSS RTK/SINS 紧组合在复杂城市环境下的导航定位性能。1 GNSS RTK/SINS 紧组合算
导航定位学报 2021年5期2021-10-13
- 先进光刻中的聚焦控制预算(I)-光路部分
利用光化学原理将掩模版上的图案转移到衬底上。在这个过程中，会涉及到光源、掩模版、投影物镜、晶圆、光刻胶、等部件或材料。光刻曝光时，需要将晶圆送至指定的高度范围内，在该高度范围内，晶圆曝光的质量是可以保证的，这个高度范围称为聚焦深度(Depth Of Focus,DOF)。聚焦深度是衡量光刻工艺窗口质量的参数之一。在制造纳米级集成电路图形时，工艺窗口极大地决定了光刻曝光的难易程度。当硅片上包含多种特征图形时，光刻聚焦深度为所有特征图形的公共DOF范围，称为可
中国光学 2021年5期2021-10-10
- 无缝光谱仪用紫外透射闪耀光栅的制作∗
刻获得光刻胶光栅掩模,离子束刻蚀进行图形转移,可直接在基底表面获得浮雕光栅.基底材料选用熔融石英,其透过率好、稳定性高;全息形成的图形无鬼线,杂散光低.优化计算表明,闪耀光栅结构可满足要求,但是其透射衍射效率对槽形参数变化较为敏感.2016年,中国科学技术大学董圣为等[9]通过全息-离子束刻蚀技术制作了线密度为360 lines/mm、闪耀角为16.8°和线密度400 lines/mm、闪耀角分别为35°和43°的3种透射闪耀光栅,实测衍射效率可达理论值的
天文学报 2021年5期2021-10-09
- 脉冲态空化射流掩模电解加工试验研究
加工中，常常采用掩模电解进行阵列加工微凹坑结构，但掩模电解加工存在电解产物排出困难、金属阳极溶解不充分等问题，中外学者对此进行了大量研究。王阳等[9]基于有限元仿真和工艺试验研究，建立了单个微凹坑掩模电解加工的多物理场模型，总结了加工电压、脉冲频率、掩模孔直径等对微凹坑加工的工艺规律。Wang等[10]通过仿真分析和加工试验发现带锥形的掩模孔可改善加工区的流场，从而加速电解液的流动，提高电解产物的排出，但锥形的角度过大容易出现杂散腐蚀。Wu等[11]采用电
科学技术与工程 2021年21期2021-08-20
- 动态特征联合新掩模优化神经网络语音增强
CC)和理想比率掩模(Ideal Ratio Mask， IRM)优化的算法；特征考虑了听觉感知，掩模是软判决，但很难处理清音，整体听感不连续。文献[5]提出一种Gammatone域耳蜗表示(Cochleagram)的语音特征。Gammatone是耳蜗滤波标准模型，但不能兼顾语音整体和瞬变信息。文献[6]提出多分辨率耳蜗表示(Multi-Resolution CochleaGram，MRCG)，其连接4个不同分辨率的对数耳蜗，同时考虑语音局部和全局信息，但
西安电子科技大学学报 2021年3期2021-07-01
- 动态场景下基于图像掩模技术的双目SLAM 算法∗
以实现实时计算。掩模[14]是指用选定的图像、图形或物体，对处理的图像(全部或局部)进行遮挡，来控制图像处理的区域或处理过程。 用于覆盖的特定图像或物体称为掩模。 掩模可以用于提取感兴趣区域、屏蔽某些区域或结构特征提出等用途。基于上述分析，本文提出动态场景下基于图像掩模技术的双目SLAM 算法，该算法可以保证实时性，其硬件成本低，便于携带，并方便搭载在其他设备上。 动态区域掩模分割算法不受视觉SLAM 定位结果影响。1 双目SLAM 算法流程本文提出的改进
传感技术学报 2021年12期2021-03-13
- 我国光掩模玻璃基板的发展现状及趋势
刘志海1 光掩模玻璃基板的定义及种类1.1 光学掩模板的定义及分类1.1.1 光学掩模板的定义光学掩模板，又称光掩模板、掩模板、掩膜版、光掩膜、光刻掩膜版、光罩等，在薄膜、塑料或玻璃基体材料上制作各种功能图形并精确定位，以便用于光致抗蚀剂涂层选择性曝光的一种结构，是微电子制造中光刻工艺所使用的图形母版。光掩模板应用十分广泛，在涉及光刻工艺的领域都需要使用光掩模板，主要用于集成电路（IC）、平板显示器（FPD）、印刷电路板（PCB）、微机电系统（MEMS）等
玻璃 2021年1期2021-02-06
- 单像素复振幅成像及实验分析
像系统主要由光学掩模与光电探测器构成。物体的光场信息经过光学掩模调制，通过透镜汇聚于无分辨率的光电探测器中，每张掩模对应一个信号，光场信息经过一系列信号调制后，可根据每张掩模与其对应信号的相关性求解得出。单像素成像系统可用于宽光谱成像，只要改变光电探测器的光谱范围，就可以很容易地改变成像的光谱范围。这一特性对于通常需要昂贵相机的光谱范围内的成像非常方便，特别是红外成像[10−12]和太赫兹成像[13−14]。单像素探测器的灵敏度高于CCD阵列面，可适用于微
光学仪器 2020年5期2020-12-08
- U型槽刻蚀工艺对GaN垂直沟槽型金属-氧化物-半导体场效应晶体管电学特性的影响*
的射频功率和刻蚀掩模, 研究了GaN垂直沟槽型MOSFET电学特性的工艺依赖性.研究结果表明, 适当降低射频功率, 在保证侧壁陡直的前提下可以改善沟道电子迁移率,从35.7 cm2/(V·s)提高到48.1 cm2/(V·s), 并提高器件的工作电流.沟道处的界面态密度可以通过亚阈值摆幅提取, 射频功率在 50 W 时界面态密度降低到 1.90 × 1012 cm–2·eV–1, 比 135 W 条件下降低了一半.采用 SiO2硬刻蚀掩模代替光刻胶掩模可以
物理学报 2020年9期2020-05-16
- 用于飞秒激光制备光纤光栅的相位掩模研制
全息曝光法、相位掩模法、逐点写入法和在线写入法等[5-6]。其中，相位掩模法不依赖于入射光波长，只与相位掩模的周期有关，适合批量生产，同时又较容易实现。传统上，采用紫外准分子激光器作为光纤光栅的写入光源，但是在紫外写入光纤光栅过程中，光纤光栅的性能与光纤纤芯材料的光敏性有关。对于不含锗的石英光纤，用紫外激光很难在其上刻写光纤光栅，而且获得的折射率调制量很小(10-4或10-3量级)[7]，并且工作温度高于400 ℃时极易被擦除[8]。因此，紫外写入的光纤光
光学精密工程 2020年4期2020-05-10
- 248 nm准分子激光旋转加工锥形孔试验
加工主要利用圆形掩模选择性透过一部分光斑，再通过后续的光学系统投影到需要加工的聚甲基丙烯酸甲酯 （polymethyl methacrylate，PMMA）薄板上，加工过程中工件静止不动，这种锥形微孔加工方式称为冲孔法[10]。冲孔法有其独特的优点，但有时无法满足更好的锥度同时达到更大的底边直径。而旋转打孔的优势在于，由于掩模不是圆形而是三角形和正方形，在旋转打孔时两种形状的内切圆会获得更多的能量，同时旋转形成的外接圆获得的能量较少，如此会比同样大小的圆形
电加工与模具 2020年2期2020-04-29
- 基于双树复小波的移动阴影检测和移除
.1 双树复小波掩模前景区域检测方法，将当前帧I和背景参考帧B转分别换到HSV 颜色空间，将转换后的图像做背景差分计算并取绝对值得到差分图像D，将差分图像的亮度分量进行n级小波分解，每级分解将产生1 个低频子带和3 个高频子带，计算每个子带的二值掩模，公式如下：图1 双树复小波变换原理其中i∈｛1，2，...，n｝表示分解级数，c∈｛LL，LH，HL，HH｝表示每级分解产生的近似、水平、垂直、对角四个子带。Wic（·）表示第i层小波分解第c个子带的小波系数
网络安全技术与应用 2020年4期2020-04-13
- 基于直写技术的微纳掩模制作技术研究进展*
)0 引 言微纳掩模制作是进行刻蚀、沉积和改性等微纳加工工艺之前的主要工艺，是微纳米加工过程中的关键步骤和基础[1,2]。同时，随着产品快速研发和制造、个性化产品订制等需求和要求的迅速增加，能够高效、柔性、低成本地根据需求实现各类掩模的快速制作已成为微/纳传感器、微/纳电子芯片等研制和生产的关键环节之一[3]。更为重要的是，由于掩模的作用是根据需要实现待加工基底的微纳工艺的图案化[4]，所以,掩模的质量对后续的微纳加工工艺有着重要的影响，甚至影响整个微纳器
传感器与微系统 2019年7期2019-06-25
- 菲涅耳非相干数字全息大视场研究*
加载在SLM上的掩模,从而调控成像系统光源的位置,最后获得几幅有一定重叠的子图像,将子图像拼接成为整幅大视场图像,实现了FINCH系统的高分辨率大视场成像.2 FINCH大视场成像原理图1所示为FINCH系统成像原理示意图,系统主要由准直透镜、SLM以及CCD组成,并采用非相干光照明.由物点发出的球面波经准直透镜后传播至SLM上,SLM上加载双透镜模式,如图2(d)所示掩模,透镜光轴在SLM幅面的中心,透镜焦距分别为fd1,fd2,将来自物点的光波分割成两
物理学报 2019年10期2019-06-04
- 掩模台水平向的二维衍射平面光栅测量模型验证
位置测量模型，对掩模台的位置进行精确定位。图1 二维衍射平面光栅尺的掩模台布局图Fig.1 Plane layouts of planar grating of reticle stage一般运动台的位置测量系统是以双频激光干涉仪为核心部件，建立运动台的运动移动引起光程变化的关系模型，测量运动台的位置。文献[1]研究分析的激光干涉仪测量运动台的不确定度可达25nm，行程为120mm。文献[2]程吉水等建立运动台的位置测量模型，控制精度达到10nm。但是激光
仪器仪表用户 2019年6期2019-05-29
- 光刻机掩模台djerk前馈控制算法研究
机主要由工件台、掩模台分系统，掩模传输分系统、硅片传输分系统、照明分系统、曝光分系统等几大分系统组成[2]，掩模台的功能是承载掩模版实现高速高加速步进扫描运动。因此，掩模台系统在控制精度、速度、稳定性方面面临着巨大的挑战。开展高速高精度掩模台运动控制算法的研究具有重要意义和工程实践应用价值。国内外许多专家在光刻机运动台控制算法方面做了大量的研究，现有的控制方法包括前馈控制、鲁棒控制等，均可以获得很好的动态性能[3]，2006年中南大学邓习树博士利用直线电机
仪器仪表用户 2019年5期2019-05-05
- ROI编码技术在JPEG2000中的应用∗
2］。2 ROI掩模（mask）的生成实际中，人眼在观察图像时，并不是对所有的内容都感兴趣，而是往往集中在图像的某个区域［2］。在一些图像编码应用的特殊场合中，比如医学图像压缩，医生经常只对图象中一些特殊区域（病灶）感兴趣，甚至是要求无损压缩［3］，而对其他区域只要达到视觉要求就可以了。这时我们可以仅对感兴趣区域进行高质量直至无损编码，对其他区域可以进行大压缩比的编码，这样即达到了提高压缩效率，又满足处理要求的目的［4］。图1 JPEG2000压缩码流结构
计算机与数字工程 2019年1期2019-03-01
- 《数字图像处理数学方法》案例教学探讨
间平滑滤波是使用掩模对图像进行二维卷积操作。用于减少噪声的平滑滤波掩模系数一般都为正数。课前教师将线性空间平滑滤波的原理和掩模操作方式以PPT的方式给学生预习。考虑到中心点对其滤波影响的程度和计算量的问题，代码中掩模给定的是3×3大小的三个掩模。学生预习要求达到理解掩模的作用、熟悉二维卷积运算过程及思考图像矩阵边界怎么处理。2.1.2 掩模操作的过程创建掩膜，并将掩模中心与某像素重合，此时将掩模系数与模板下对应像素相乘结果相加，此时就得到该像素平滑滤波的结
浙江水利水电学院学报 2018年6期2019-01-17
- 一种提高掩模条宽（CD）性能方法的研究
胡 超（无锡中微掩模电子有限公司，江苏无锡 214135）1 引言近年来，随着半导体制造技术的快速发展，器件尺寸不断缩小，器件集成度越来越高，根据摩尔定律，晶体管的数量每18个月就要翻一番[1]，这对光刻技术提出了更高的要求。而光刻技术的提高离不开掩模，器件尺寸的不断缩小对应掩模上的芯片图形关键尺寸首先要缩小。这对掩模条宽要求越来越严格，对掩模条宽控制精度的要求也越来越高，条宽偏差（CD MTT,mean to target）为评价掩模的关键指标之一。根据
电子与封装 2018年9期2018-09-27
- 基于删除方法构造码长固定的多速率LDPC码
二元矩阵Z被称为掩模矩阵，经过掩模操作后得到的矩阵阵列Hmask的零空间即可定义一个LDPC码。3 基于删除方法构造MR-LDPC码按照删除的过程，首先构造一个具有系统形式的高码率LDPC码，为了在码长固定的条件下降低码率，需要在减少信息位的同时增加校验位。其中的难点在于：如何在保持已有高码率LDPC码校验矩阵结构的前提下，实现信息位的减少和校验位的增加。针对以上难点，采用LDPC码的叠加构造来整体设计所有码的校验矩阵。假设要构造的MR-LDPC码的码集合
无线电通信技术 2018年5期2018-08-23
- 改进高通滤波的圆柱滚子缺陷图像非线性反锐化掩模
有效增强。反锐化掩模是图像边缘增强的常用方法，其通过加强图像的高频成分突出图像的细节和边缘，并将低频分量从原始图像中去除从而实现图像增强。传统的反锐化掩模采用了线性高通滤波器，由于图像的细节和噪声同时被增强，即使很小的噪声，在图像平坦区域内也会非常明显。调整叠加系数的反锐化算法[5]、立方反锐化掩模技术[6]、自适应反锐化掩模技术[7]等方法的处理效果相对于线性反锐化掩模技术有所提高，但仍然会在平滑区引入人为噪声。文献[8-9]在自适应反锐化掩模技术的基础
轴承 2018年4期2018-07-23
- 一种基于干涉的新型图像加密算法
种使用双随机相位掩模将原始图像编码为平稳白噪声［4］的加密方法。研究者将该方案中提出的随机相位编码（Random Phase Encoding，RPE）方法广泛地应用到光学图像加密系统当中［5-8］。实验表明，仅用双随机相位编码（Double Random Phase Encoding，DRPE）加密的方案在抵抗攻击方面存在缺陷［9-10］。为了进一步提高图像加密系统的安全性，研究人员在DRPE基础上提出了一系列新的加密方法，如迭代相位检索方法［11-13
四川轻化工大学学报(自然科学版) 2018年2期2018-05-22
- 浅谈基于SLM的非相干全息系统掩模设计及成像处理
：空间光调制器，掩模，成像，图像处理一、背景1.研究目的及应用基于空间光调制器（Spatial Light Modulator，SLM）的菲涅尔非相干相关数字全息系统，无需对物体在空间或时间上进行扫描，可以快速获取真实三维物体的全息图，在荧光生物样品显微成像、彩色全息显示、以及自适应光学等领域展示了极大应用潜力。通过本项目的研究，为SLM更广泛的应用提供实验基础。2.创新点利用SLM良好的相位调制特性，不需要更换硬件设施，只用合适的实现相应的照明图像或滤波
科学与财富 2017年27期2017-10-17
- 基于RFID的数字化掩模制造
，胡超（无锡中微掩模电子有限公司，江苏无锡214135）基于RFID的数字化掩模制造张鹏，丁晗，沈天翊，胡超（无锡中微掩模电子有限公司，江苏无锡214135）介绍了中微掩模智能化生产系统，提出了利用RFID技术实现对掩模版制造流程的智能化管理。利用智能化生产系统提高了和客户之间的交互性，利用智能货柜系统实现了掩模版私有云制造。依托现有智能生产管理系统，提出了集成电路全产业链智能制造的概念。掩模数字化生产；全生命周期管理1 引言掩模制造在集成电路设计制造产业
电子与封装 2017年8期2017-09-03
- 掩模图像生成时阈值取值的合理性探讨
810016)掩模图像生成时阈值取值的合理性探讨韩丽蓉1,2(1.青海大学地质系，西宁 810016； 2.青藏高原北缘新生代资源环境重点实验室，西宁 810016)阈值取值是否合理对生成符合某种条件的二值及多值掩模图像是否正确至关重要，而这项技术是去除干扰信息及提取有用信息的关键步骤。基于不同的阈值，探讨如何判断在生成单一干扰因素的二值掩模图像时阈值是否合理的方法； 并以青海省天峻地区TM数据为例，利用阈值合理的多值掩模图像得到无干扰信息的遥感图像，进
自然资源遥感 2017年2期2017-04-27
- 注塑模具型腔表面阵列微结构的蚀刻技术
设计了一种简单的掩模，并通过控制蚀刻液的喷淋压力进行了平滑阵列微结构研究。研究发现，蚀刻液喷淋压力对微结构的加工形貌有显著影响，蚀刻深度和侧蚀量随蚀刻液喷淋压力增大而增大。研究整合了多次加工和控制喷淋压力的工艺，得到了理想的无棱边棱角、结构均匀的深度渐变型阵列微凸结构。最终在注塑模具表面上加工出宽度为200 μm、深度约60 μm的无棱边棱角、过渡平滑的阵列微结构。化学蚀刻；表面微阵列结构；蚀刻深度；侧蚀量；二次加工etching0 引言表面阵列微结构[1
中国机械工程 2016年17期2016-10-10
- 基于CIELAB颜色模型的数字照片背景色替换
，然后计算灰度值掩模，之后与纯白色进行混合得到替换结果。最后进行缩放、填补、裁切，从而完成整个处理过程。实验表明，该方法具有很高的实用性,并且实现简单。现阶段该方法仅使用了像素点的颜色信息，今后将改进加入像素点的空间位置信息，以提高处理成功率。关键词照片背景色替换k-means算法灰度值掩模CIELAB颜色空间0引言纸质申请表的右上方固定矩形区域内粘贴有彩色照片，经扫描仪扫描得到整张申请表的数字图片。利用数字图像处理技术对扫描得到的申请表数字图片进行处理，
计算机应用与软件 2016年7期2016-08-05
- 接近式光刻中基于条纹相位解析的掩模硅片面内倾斜校正研究*
于条纹相位解析的掩模硅片面内倾斜校正研究*佟军民①②徐 锋③胡 松②(①许昌职业技术学院，河南 许昌461000；②中国科学院光电技术研究所，四川 成都 610209；③西南科技大学信息工程学院，四川 绵阳 621010)针对接近式光刻中掩模硅片面内倾斜提出一种条纹相位解析方法。该方法通过2D傅里叶变换结合2D汉宁窗对于掩模硅片在面内发生的倾斜而形成的倾斜条纹进行处理，获得掩模硅片在面内的倾斜角度，进而进行倾斜校正。数值模拟与实验验证了该方法的可行性与有效
制造技术与机床 2016年9期2016-03-21
- 应用材料公司的创新硬掩模材料技术解决铜互连图形生成的挑战
统，采用突破性硬掩模技术，可支持10 nm 及更小的铜互连图形生成。芯片尺寸的不断缩小需要更先进的硬掩模技术，从而保证紧凑、微型互连结构的完整性。随着这一全新技术的推出，应用材料公司成功延续氮化钛（TiN*，半导体行业的首选硬掩膜材料）金属硬掩模，满足未来先进微芯片铜互连图形生成的需求。应用材料公司金属沉积产品业务部副总裁兼总经理Sundar Ramamurthy 博士表示：“解决先进互连图形生成的挑战是金属硬掩模精密工程领域的关键。应用材料公司过去数十年
电子工业专用设备 2015年6期2015-07-04
- 硅中阶梯光栅的湿法刻蚀技术
工艺过程中光刻胶掩模制备、氧化层掩膜制备以及单晶硅湿法刻蚀等环节进行研究，介绍了一种新型中阶梯光栅的制作方法。1 基片准备基于光谱仪对光栅参数要求（光栅闪耀角θ＝63.4°），向 硅 片 提 供 商 订 购 了 电 阻 率≥2 000Ω·cm，直 径 等 于76.4mm，厚 度 等 于1mm的单晶硅基底，其中相对于（100）晶面的切偏角精度为8.6°±0.2°，粗糙度小于1nm。通过原子力显微镜对硅片80μm×63.7μm范围内表面粗糙度进行测量可知：在所
长春工业大学学报 2015年4期2015-06-12
- 基于接近式光刻机的掩模移动曝光对准系统设计*＊
610209)掩模移动曝光技术既可以制作柱状阵列微光学元件，也可以制作旋转阵列微光学元件［1-3］，在平行均匀曝光光线的作用下，如果具有周期图形开口函数的掩模版相对于涂有光刻胶的基片沿一个方向匀速移动，那么曝光显影后，光刻胶上将得到柱状阵列微光学元件。如果掩模版先沿一个方向移动曝光，然后将掩模版准确旋转90°后再沿与之垂直的另一方向移动曝光，显影后将得到旋转阵列微光学元件。为了实现曝光显影后精确的三维图形光学元件，需要掩模版相对于基片的对准误差足够小。掩
制造技术与机床 2015年8期2015-04-23
- ICP 深硅刻蚀工艺掩模的研究*
，分别讨论了金属掩模材料和光刻胶掩模材料对深硅刻蚀表面形貌、刻蚀选择比和刻蚀速率的影响。1 ICP 刻蚀原理硅刻蚀是体加工中重要的一步，在硅表面光刻图形后，通过刻蚀工艺将图形转移到光刻胶下边的层上。通常硅刻蚀分为湿法刻蚀和干法刻蚀，ICP 属于干法刻蚀，其刻蚀系统如图1 所示。图1 ICP 刻蚀系统示意图Fig 1 Diagram of ICP etching system硅的干法刻蚀一般有几种方式，因为SiF4，SiCl4，SiBr4都是易气化的物质，所
传感器与微系统 2015年8期2015-03-30
- 基于双掩模图像差影的工业产品表面缺陷检测*
形态学处理后得到掩模图像，再与有轮廓伪影图像的差分图像进行比对，除去轮廓伪影。但单掩模方法只能检测纹理增加型缺陷，而无法检测纹理减少型缺陷。为此，本文提出一种基于双掩模的图像差影缺陷检测方法，能有效消除轮廓伪影，检测多种类型缺陷，而且执行简单，满足在线检测的实时性要求。1 单掩模差影法及其分析1.1 差影法产品表面缺陷表现在图像上，即为待检测图像缺陷处的灰度值与标准图的差异，将待检测图像的灰度值同标准图像进行差分(像素值相减)，判断其差值(2 幅图灰度值的
传感器与微系统 2015年5期2015-03-27
- PCB内埋入空气腔体制作工艺研究
空气腔体；流胶；掩模材料1 背景21世纪进入了高度信息化的社会，IT产业成为了21世纪中具有典型代表性的产业,发展IT 产业的重要技术基础是高速、高频、大容量的信号传输，电子产品与通信产品在高速化方面的迅速发展是显而易见的。在发展高速化PCB产业中，从它的产品设计，到选择基板材料、产品制作、产品检验处处都包含着新技术、新水平，它的应用领域也提升到一个新的高档次。因此，可以认为高速化PCB产业，是带有高附加值的、具有“知识经济”产业。发展高速化PCB产品，将
印制电路信息 2015年3期2015-02-05
- Pyrex 7740玻璃深刻蚀掩模研究
普遍研究和应用。掩模与刻蚀剂的选择是玻璃湿法腐蚀的关键，采用不同的刻蚀剂配比和掩模材料对刻蚀效果均有一定影响［5］。玻璃湿法腐蚀普遍采用含有HF的溶液，因而，掩模保护层很容易出现塌陷、钻蚀甚至是脱落。常用的抗腐蚀掩模有光刻胶、硅材料、Cr/Au金属层等，但这些掩模多少都存在一些问题:1）光刻胶，其对于饱和氢氟酸的抗蚀能力很弱。林雁飞等人采用光刻胶做掩模，最大刻蚀深度仅2 μm［6］。目前报道过的最佳刻蚀深度不超过33 μm，而增加粘附力所需优化的工艺非常复
传感器与微系统 2014年6期2014-12-31
- 用于光刻系统仿真的多边形处理算法*
产生严重下降，与掩模图形存在较大误差，比如出现拐角圆化、线端缩短等现象，将其称为光学邻近效应(optical proximity effect,OPE)。最终导致的后果是使芯片性能得不到保证，并影响产品的成品率。为此，业内提出了若干改进分辨率的方法，即所谓的分辨率增强技术[1](resolution enhancement technique,RET)，比如应用掩模补偿技术，其中一种为相移掩模[2,3](phase-shift mask,PSM)，即在原有
传感器与微系统 2014年9期2014-09-25
- 面曝光快速成形系统中掩模图形的生成方法
光快速成形系统中掩模图形的生成方法王亚宁，胥光申，巨孔亮，罗生(西安工程大学机电工程学院，陕西西安710048)针对STL模型生成掩模图形的问题，从现有的STL模型切层软件中获取轮廓数据，使用VC++6.0实现轮廓环内外轮廓属性的判断、轮廓环填充次序的确定和轮廓环的填充，得到适用于面曝光快速成形系统的掩模图形.验证结果表明，该掩模生成方法可对多层嵌套的轮廓环进行合理填充，生成正确的掩模图形.面曝光;掩模图形;快速成形;轮廓环填充0 引言面曝光快速成形技术是
西安工程大学学报 2014年1期2014-06-23
- 三角形网格规则点的多进制细分算法
制细分在规则点的掩模表达式,但未给出严格证明.图1为初始网格与应用三进制Loop细分算法2次的结果及在规则点的三进制细分掩模.上述方法均未给出规则点的多进制细分掩模的显式表达式,也未严格说明掩模用到点的范围.事实上,二进制细分算法存在局限性,如当初始网格确定后,对每次细分生成的点不能进行人为控制,经常会遇到前一步细分生成的点数不满足实际需求,而再细分一次生成的点有大量冗余的情况.不仅需要大量的内存和硬盘空间,增加了计算量,提高了对运算和显示设备的性能要求,
吉林大学学报（理学版） 2013年5期2013-12-03
- 基于小波变换的反锐化掩模图像增强研究
使用图像.反锐化掩模技术［1］是应用于摄影技术中的一种方法，通过此方法可以有效地增强图像的边缘和细节信息.其在光学上的操作方法是将聚焦后的正片和散焦后的负片在底片上进行叠加，结果是增强了正片高频成分，从而增强了轮廓，散焦的负片相当于“模糊”模板(掩模模型)，它与锐化的作用正好相反，因此，将该方法称为反锐化掩模法，是在摄影技术中最常用的边缘细节增强方法之一.小波变换［2］是近年来新出现的时频分析工具，由于它具有多分辨率分析能力和时频局部化的能力，故在图像处理
渭南师范学院学报 2013年6期2013-06-25
- 一种先进运动估计算法的硬件实现
1所示。RW支持掩模：即在有掩模的区域不作运算。在最大的模式（64×64 →128×128）下，运算时间不超过5ms（工作频率为33MHz）。输出全部的运算结果及其最小的三个值和相应的坐标。设计定义如下：PW：Peak Window（顶点窗，顶点区域）；RW：Reference Window（参考窗）；SW：Search Window（搜索窗）；PE：Processor Element（处理单元）。SW及RW中坐标的定义如图1。表1 工作模式图1 RW和S
电子与封装 2012年6期2012-09-19
- 掩模传输交换版机械手的设计分析
201203)掩模传输模块是光刻设备关键组件之一，其性能和功能指标直接影响光刻机的效率和产能以及产品的质量，因此提高掩模传输效能和可靠性对光刻机的整体性能指标非常关键。而掩模传输交换版机械手的结构形状则决定掩模版传输的效率和精度，也决定掩模台吸版面的结构形状和同轴对准的时间，所以掩模传输交换版机械手运动性能和空间结构的组成对掩模传输甚至整个光刻机来说，就显得尤为重要。本文主要从掩模传输交换版机械手的需求、性能、结构和可靠性及可维修性等方面做一些探讨。1
电子工业专用设备 2012年12期2012-09-16
- 相移掩模清洗结晶控制
陈 卓(无锡中微掩模电子有限公司，无锡214035)在集成电路设计与圆片制造之间起到桥梁的作用掩模按其类型可分为二元掩模和相移掩模。二元掩模主要用于低阶集成电路生产制作，相移掩模主要用于高阶集成电路制作。通常，线宽在0.18 μm 以下的集成电路生产主要采用相移掩模。相移掩模的生产制作流程主要有曝光—显影—金属Cr 刻蚀—量测—去胶—相移层蚀刻—量测—涂胶—二次曝光—检验—修补—清洗—贴膜等。在相移掩模实际生产过程中，掩模制作完成之后会因为种种原因出现结晶
电子工业专用设备 2012年5期2012-07-04
- 孤立接触孔掩模显影工艺优化
陈 卓(无锡中微掩模电子有限公司，无锡214035)掩模（Mask），又称光刻板，是大规模集成电路芯片生产最重要的元件之一。在掩模的生产制作过程中，主要有曝光—显影—量测—刻蚀—量测—去胶—量测—检验—修补—清洗—贴膜等工序。其中，显影、刻蚀和去胶后的量测是为了监测掩模图案指定区域的线条宽度（CD）值与设计值之间的差别，从而达到实时监控掩模的制造工艺，保证掩模生产质量。在实际生产过程中，掩模孤立区域的接触孔经过显影之后量测值（ADI）往往会比设计值偏大。针
电子工业专用设备 2012年5期2012-07-04
- 半监督系数选择法的人脸识别
系数;3)通过预掩模选择图像的DCT系数，选取中频有效信息;4)根据有标记的训练样本种子集，计算初始聚类中心，采用半监督约束聚类对图像进行聚类;5)根据获得的分类，计算判别系数，得到判别系数(DC)阵;6)对DC阵的列向量按照降序排列，分别选取前n(n为想要的特征数)个最大值，并标记它们相应的位置;7)选取每个列向量前n个最大值对应的DCT系数，得到n×P的最优DCT系数阵，其中n≪K;8)对测试集用分类器计算识别率，文中采用的是最小欧式测度分类器.2 离
哈尔滨工程大学学报 2012年7期2012-03-23
- 基于光束扫描宽化技术的激光掩模微加工系统
扫描法、点阵法和掩模投影法［5-6］。扫描法从最初的机械扫描发展到后来的转镜扫描和目前的振镜扫描，它一直是最有效和应用最广的激光打标技术;点阵法具有控制灵活的特点，特别适合于生产线上的产品在线打标;而掩模投影法可利用激光一次性打出整个标记图案，打标速度快，适合于批量产品的打标，但此种方法的缺点是打标灵活性差，能量利用率低，对激光器输出能量和掩模能承受的激光能量要求较高，掩模的制作比较困难。本文介绍了一种基于扫描式激光宽化技术和掩模聚焦成像原理的掩模投影法微
中国光学 2011年6期2011-11-06
- 光刻机主从滑模同步控制系统设计
中，要求光刻机的掩模台和工件台在对应方向的运动保持同步。同步性能主要从两个方面考察，分别是同步偏差的移动平均差和移动标准差。当同步偏差增加时，焦深(DOF)和能量裕度(EL)会显著下降，将会严重影响硅片的曝光效果［1－2］。同步控制在机械传动、机床加工和机器人等很多领域已经有了深入的研究，目前比较流行的同步控制方法是交叉耦合和主从控制方法。由于掩模台的扫描速度是工件台的4倍，而质量却是工件台的几分之一，故采用以掩模台为从动系统、工件台为主动系统的主从控制结
电光与控制 2011年11期2011-06-07
- 先进相移掩模（PSM）工艺技术
035）先进相移掩模（PSM）工艺技术彭 力，陈友篷，尤 春，周家万（中国电子科技集团公司第58研究所，江苏 无锡 214035）先进相移掩模（PSM）制造是极大规模集成电路生产中的关键工艺之一，当设计尺寸（CD）为0.18 μm时，就必须在掩模关键层采用OPC（光学邻近校正）和PSM（相移技术），一般二元掩模由于图形边缘散射会降低整体的对比度，无法得到所需要的图形。通过相位移掩模（PSM）技术可以显著改善图形的对比度，提高图形分辨率。相移掩模是在一般二元
电子与封装 2010年9期2010-09-05